全芯智造获得用于光源掩模优化的专利提高了 SMO 的处理功率

  

  金融界 2024 年 8 月 21 日音讯，天眼查知识产权信息数据显现，全芯智造技能有限公司获得一项名为“用于光源掩模优化的办法、设备和介质“，授权公告号 CN118092068B，请求日期为 2024 年 4 月。

  专利摘要显现，依据本揭露的示例施行例供给了用于光源掩模优化的办法、设备和介质。该办法有：获取包含多个掩模图形的掩模地图和光源的信息；经过光刻仿真，生成使用掩模地图和光源在晶圆上构成的多个晶圆图形，多个晶圆图形别离对应于多个掩模图形；确认与多个晶圆图形的构成相关联的成像本钱；以及根据成像本钱，经过改动多个掩模图形中的至少一个掩模图形的方针尺度，确认光源的方针照明形式和掩模地图。以此方法，无需对方针尺度进行人工调整，提高了 SMO 的处理功率。

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